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极紫外光刻新技术问世

发布时间: 2024-08-02 14:53:17 来源: 科技日报

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光刻技术创意图。
图片来源:OIST官网

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科技日报北京8月1日电 (记者张梦然)据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。
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在传统光学系统中,例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术,光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线,因为它们的波长极短,大多数会被材料吸收。因此,EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴,从而牺牲重要的光学特性并降低系统的整体性能。LMt速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

为解决这一问题,新光刻技术通过将两个具有微小中心孔的轴对称镜子排列在一条直线上来实现其光学特性。LMt速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

由于EUV吸收率极高,每次镜子反射,能量就会减弱40%。按照行业标准,只有大约1%的EUV光源能量通过10面反射镜最终到达晶圆,这意味着需要非常高的EUV光输出。LMt速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

相比之下,将EUV光源到晶圆的反射镜数量限制为总共4面,就能有超过10%的能量可以穿透到晶圆,显著降低了功耗。LMt速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

新EUV光刻技术的核心投影仪能将光掩模图像转移到硅片上,它由两个反射镜组成,就像天文望远镜一样。团队称,这种配置简单得令人难以想象,因为传统投影仪至少需要6个反射镜。但这是通过重新思考光学像差校正理论而实现的,其性能已通过光学模拟软件验证,可保证满足先进半导体的生产。团队为此设计一种名为“双线场”的新型照明光学方法,该方法使用EUV光从正面照射平面镜光掩模,却不会干扰光路。LMt速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

欧洲空间局公布了“欧几里德”空间望远镜拍摄的首批彩色图像,有助于揭示暗物质和暗能量等宇宙奥秘。图为马头星云的 关于2023年第二批拟备案的省自然科学基金结题验收项目的公示 根据《河南省自然科学基金项目管理办法》(豫科〔2022 陈志潜(1903—2000),生于四川成都。公共卫生学家、医学教育家、中国近现代农村公共卫生体系的开创者。1929年毕业于北京协 科技日报北京12月29日电 (记者张佳欣)向人体运送药物的主要挑战是能不断将药物准确送达病灶位置,同时确保它们留在病灶 青海盐湖的梦幻蓝、翡翠绿,宛如遗落在人间的宝石,岸边覆盖着白色的结晶,深深浅浅的颜色连接在一起,不仅让游客沉醉其中,也让 关于发布2023年度江西省社会科技奖备案目录的通知 各有关单位: 社会力量设奖是我省科学技术奖励工作的组成部分。为杜绝 。

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