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我国科研团队完成一种新型光刻胶技术初步验证

发布时间: 来源: 科技日报

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4月2日,记者从华中科技大学获悉,该校与湖北九峰山实验室组成联合研究团队,突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。相关成果日前发表在《化学工程杂志》上。
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据介绍,这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证,并同步完成了各项技术指标的检测优化,实现了从技术开发到成果转化全链条打通。MDc速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

光刻胶是半导体制造不可或缺的材料,其质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高,市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。MDc速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

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当半导体制造节点进入到100纳米甚至是10纳米以下,如何产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形,成为光刻制造的共性难题。MDc速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

该研究通过巧妙的化学结构设计,以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”,最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差(SD)极小(约为0.05)、性能优于大多数商用光刻胶,且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。MDc速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

据悉,该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向,同时为极紫外线光刻机光刻胶的着力开发做技术储备。MDc速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

(受访单位供图)MDc速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

图为在上海科技创新成果展上拍摄的科学刊物展台。新华社记者 方喆摄 一直以来,学者们向学术期刊投稿面临着激烈竞 如果有一只眼睛,能帮我们一直看到中国南海海底深处,会看到什么? 除了深邃黑暗的海洋,慢慢爬动的潜铠虾和海底岩石等,好像还有 12月15日至16日,国家自然科学基金委员会管理科学部主办、首都经济贸易大学承办的数据要素与数字经济高层研讨会在首 12月16日,纪念姜维壮教授诞辰百年学术研讨会暨中国财税史研究院2023年年会在中央财经大学召开。在会上,与会者深切缅怀我 问:据媒体报道,一名中国留学生在美国犹他州疑似遭遇绑架。中国使馆能否证实此事并介绍情况? 答:中国驻美国大使馆高度重视 2023年12月28日,陕西省审计厅在官网发布《2023年第9号审计结果公告》,其中西安工业大学2020年度预算执行及其他财务收支 。

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