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我国科研团队完成一种新型光刻胶技术初步验证

发布时间: 2024-04-02 17:09:12 来源: 科技日报

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4月2日,记者从华中科技大学获悉,该校与湖北九峰山实验室组成联合研究团队,突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。相关成果日前发表在《化学工程杂志》上。
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据介绍,这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证,并同步完成了各项技术指标的检测优化,实现了从技术开发到成果转化全链条打通。gug速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

光刻胶是半导体制造不可或缺的材料,其质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高,市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。gug速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

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当半导体制造节点进入到100纳米甚至是10纳米以下,如何产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形,成为光刻制造的共性难题。gug速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

该研究通过巧妙的化学结构设计,以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”,最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差(SD)极小(约为0.05)、性能优于大多数商用光刻胶,且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。gug速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

据悉,该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向,同时为极紫外线光刻机光刻胶的着力开发做技术储备。gug速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

(受访单位供图)gug速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

12月13-14日,第15届中美绿色能源论坛在南京召开。论坛由中国电机工程学会、美中绿色能源促进会主办,以“碳中和实现路径与 细菌锰离子外排对于锰离子和铁离子稳态均具有重要意义。TerC家族蛋白是存在于所有细菌中的一种保守蛋白质。然而,长期以 中新网广州12月3日电 (记者 蔡敏婕)人工智能是人类发展新领域。当前,全球人工智能技术快速发展,对经济社会发展和人类 1923年2月14日,学者张君劢应邀到清华学校演讲,演讲的主题是“人生观”,要点是说明科学与人生观的差异,张君劢的观点引起地质 ·星河动力C及C+轮融资11亿元人民币,资金将用于智神星一号可重复使用液体运载火箭技术研发以及相关生产、试验和发 “这些小胶质细胞在tau蛋白病变有效地扩散到下一个细胞之前就开始吸收并降解tau蛋白。没有tau病理学,就不会有神经退 。

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