科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。研究团队表示，除芯片制造外，该技术还有望应用于纳米药物、量子计算和新材料合成等领域。相关研究发表于新一期《纳米快报》。
得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，最终形成手机、电脑等电子设备中的芯片。然而，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，体积大到需要占据整个房间，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。
为降低研究门槛，团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，仅保留核心组件，开发出一套体积更小、成本更低且更易改造的桌面级设备。
与此同时，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，通常只能以二维方式逐层堆叠打印，新打印技术突破了这一限制。此外，传统方法虽然曝光打印过程较快，但后续处理过程往往需要数天时间。新技术能并行构建多个纳米层级结构，而非逐层堆叠，从而将曝光时间缩短至几分钟。
团队称，这项工作目标是降低半导体研究成本，加快新材料和新工艺开发。目前，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，未来还将开展更多实验验证。
现阶段，该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，例如存储芯片和光子器件。团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，实现更小尺寸半导体结构的制造，从而提升芯片计算性能。
细菌锰离子外排对于锰离子和铁离子稳态均具有重要意义。TerC家族蛋白是存在于所有细菌中的一种保守蛋白质。然而，长期以 今天上午，中国首家公办本科职业学校——南京工业职业技术大学与柬埔寨柬华理事总会合作共建的柬华应用科技大学成立揭牌 12月18日，2023年度国家自然科学基金管理工作会议在北京召开。会议回顾总结2023年科学基金资助与管理工作，介绍新时期 教育、科技、人才三者相互促进、相辅相成。建设人才强国是实现建设教育强国和科技强国战略目标的关键条件。那么，一个重 12月16日，“第六届中国行业发展高峰论坛”暨上海交通大学行业研究院五周年系列活动（上海站）成功举行。此次论坛主题为“知 美国哈佛大学校长克洛迪娜·盖伊当地时间1月2日发表声明，宣布辞去哈佛大学校长一职。 盖伊在声明中说，她 。本文链接：桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟http://www.sushuapos.com/show-11-35057-0.html
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